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弹性发射抛光
弹性发射抛光
弹性发射加工 百度百科
弹性发射加工 (elastic emission machining,EEM)采用浸液工作方式，利用在工件表面高速旋转的聚氨酯小球带动抛光液中粒度为几十纳米的磨料，以尽可能小的人射角冲击工件表 弹性发射加工作为一种超精密抛光方法，优点是在 合适的抛光参数下可以使工件表 百度文库
李佳慧,侯溪,张云,王佳,钟显云 弹性发射光学制造技术研究
2021年9月18日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特 性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装 2021年10月7日 — 弹性发射加工技术 (Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光技术。 基本原理如图1所示，光学元件和弹性变形恢复快的聚氨酯抛 弹性发射光学制造技术研究进展加工
弹性发射光学制造技术研究进展 旭为光电
弹性发射加工技术 (Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光技术。 基本原理如图1所示，光学元件和弹 2021年10月7日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的 原理，包含流体特性、抛光 颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装 弹性发射光学制造技术研究进展光学加工与制造光行天下
弹性发射数控抛光系统设计及搭建 百度学术
本文根据弹性发射加工特点以及其精度要求,搭建了一套用于弹性发射加工的装置,并对抛光过程中的抛光正压力和抛光距离进行了分析,通过对石英玻璃进行抛光实验验证了本装置可 2016年11月9日 — 该实用新型采用抛光柱自转和工件自转的方式,适用于大口径超光滑光学元件弹性发射抛光,可消除抛光纹路,提高抛光效率、面形精度及降低表面粗糙度,减少表面损伤。一种弹性发射抛光装置 百度学术
纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术
借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。 纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法 用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法侯溪中国科学院大学UCAS
弹性发射数控抛光系统设计及搭建 百度文库
2021年10月8日 — 弹性发射加工作为一种超精密抛光方法，优点是在 合适的抛光参数下可以使工件表面粗糙度达到纳米级甚 至亚纳米级。 缺点一是抛光速率很慢，二是对所搭建的 抛 2021年12月30日 — 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光 弹性发射光学制造技术研究进展
一种弹性发射抛光装置 百度学术
2016年11月9日 — 主权项： 1一种弹性发射抛光装置，包括抛光柱自转单元和工件自转单元，所述抛光柱自转单元包括抛光柱、抛光柱自转驱动结构和抛光柱升降结构，所述抛光柱自转驱动结构包括自转轴、电机、同步轮、同步带、轴承、支撑臂，所述抛光柱升降结构包括横梁、导轨、导轨固定梁和气缸，所述工件 2021年7月24日 — 弹性发射加工－EEM （Elastic Emission Machining） 2021/7/24 21 552 界面化学抛光 化学机械抛光CMP (Chemical Mechanical Polishing or Chemical Mechanical Planarization) 微细磨粒＋软质抛光垫＋酸性（或碱性）液 利用磨粒的机械作用和加工液的腐蚀第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库
弹性发射光学制造技术研究进展 中国光学 中国光学期刊网
2021年11月16日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。 2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光弹性发射光学制造技术研究进展 旭为光电
纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术
借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]专利内容由知识产权出版社提供专利名称：一种弹性发射抛光装置 专源自文库类型：实用新型专利 发明人：毛卫平,张清明,杨明洋,刘秦江 申请号：CN 79 申请日： 公开号：CN20614 0239U 公开日一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]百度文库
弹性发射光学制造技术研究进展
2021年1月22日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的2015年7月8日 — Jeong[8]对弹性发射加工抛光区域的压力、速度进行分 析ꎬ并对磨粒运动进行模拟仿真以此来揭示材料的去 除机理ꎮKutbota等[9￣10]对弹性发射加工中磨粒的形 态对材料去除率的影响进行研究ꎬ结果表明磨粒相对超光滑表面加工技术研究进展
一文读懂光学镜片抛光工艺（建议收藏） 知乎
2023年12月13日 — 基于光学镜片的研磨抛光的精密需求，目前又发展出了新的加工技术，如数控研磨和抛光技术、应力盘抛光技术、超光滑表面加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、震动抛光等等新技术，这些新的加工技术，需要边检测、边修正，不仅加工 摘要： 本文根据弹性发射加工特点以及其精度要求,搭建了一套用于弹性发射加工的装置,并对抛光过程中的抛光正压力和抛光距离进行了分析,通过对石英玻璃进行抛光实验验证了本装置可以用于弹性发射加工,且抛光后石英玻璃表面粗糙度有所降低弹性发射数控抛光系统设计及搭建 百度学术
弹性发射加工材料去除的滚动模型分析,International Journal of
2023年6月25日 — 弹性发射加工（EEM）是获得超光滑表面的最有效技术之一。抛光轮将抛光颗粒供给到工件表面的特定位置，与工件发生化学反应，实现材料的无损去除。然而，抛光轮与浆料之间的相互作用以及原子去除机制仍不清楚。在这项研究中，在三维状态下考虑抛光轮和浆料之间的相互动态相互作用，并建立 2021年10月7日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的 原理，包含流体特性、抛光 颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和 材料 去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的弹性发射光学制造技术研究进展光学加工与制造光行天下
液动压悬浮抛光流场的数值模拟及抛光工具盘结构优化
2019年6月2日 — 0 引言 为解决机械抛光和化学机械抛光过程中磨粒与工件表面刚性接触，造成抛光表面产生细微划痕以及损伤层的难题，国内外学者提出了弹性发射抛光、浮法抛光、动压浮离抛光等非接触抛光加工方法，有效改善了传统抛光加工的刚性接触状态，将磨粒与工件的接触转变为准接触或者非接触 [1]。2024年6月17日 — 超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技晶体元件精密光学元件激光器件非线性光学晶体航空、激光和核聚变等领域的快速发展促使了对光学元件的指标要求越来越高，不仅要求各项光学指标达到极高的精度，对表面粗糙度也提出了低至埃级的超光滑表面要求。超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技
侯溪中国科学院大学UCAS
用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪 一种光学元件表面缺陷高精度检测装置 CN59, [4] 赵远程, 胡小川, 李梦凡, 侯溪2018年7月6日 — 光、弹性发射抛光、水面滑行抛光等众多抛光方 法[14￣17]ꎮ在当前的低弹性模量试样的原子级超光滑 表面的平面抛光方法中ꎬ浴法、浮法与弹性发射抛光更 具代表性ꎮ通过上述流体抛光的研究理论、技术方法线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究∗
《超精密加工技术》PPT课件百度文库
工具运动方向 抛光工具 抛光工具上开有锯齿槽， 抛光液 磨粒 靠楔形挤压和抛光液的反 弹，增加微切削作用。 工件 4〕制作简单，价格低廉，使用方便。 5〕可用于内外外表及成形外表加工。 一、 精细与超精细加工技术 游离磨料加工 ★ 弹性发射加工 加压2017年7月4日 — 中科院长春光机所自上世纪九十年代起专注于 EUV/X 射线成像技术研究，着重开展了 EUV 光源、超光滑抛光技术、EUV 多层膜及相关 EUV 成像技术研究，形成了极紫外光学的应用技术基础。2002 年，研制国内套 EUV 光刻原理装置，实现了 EUV长春光机所承担的国家科技重大专项项目“极紫外光刻关键技术
弹性发射数控抛光系统设计及搭建王昆黄智星中文期刊【掌桥
2024年4月23日 — 本文根据弹性发射加工特点以及其精度要求,搭建了一套用于弹性发射加工的装置,并对抛光过程中的抛光正压力和抛光距离进行了分析,通过对石英玻璃进行抛光实验验证了本装置可以用于弹性发射加工,且抛光后石英玻璃表面粗糙度有所降低。弹性发射抛光 工作原理 抛光轮与工件表面形成 小间隙，中间置抛光液， 靠抛光轮高速回转造成 微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进 行加工。 深度极小时的状态。 由于磨料处于游离状态，难以形成连续切削。 通过转动和加压，磨料与工件间存在断续研磨 第7章超精密研磨与抛光百度文库
磁流变抛光技术研究进展西安工业大学图书馆 XATU
2024年4月8日 — 磁流变抛光技术研究进展 孙洹（图书馆） 引言 现代科学技术的发展对应用于各种光学系统中的光学元件提出了越来越高的要求。通常情况下，要求最终生产的光学元件具有高的面形精度、好的表面质量及尽量减少亚表面破坏层。本文介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃的精密抛光方法，侧重阐述了国内外等离子体的抛光技术，包括等离子体 辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工研究进展及取得的成果；且对等离子体的未来发展进行概述 石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状Research Status of
弹性发射光学制造技术研究进展 百度文库
2021年2月22日 — 性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素， 分析了弹性发射加工技术面临的问题，展望了未来的发展方向，期望为弹性发射加工技术进一步发展和应用提供一定的 参考。2022年1月12日 — 基于光学镜片的研磨抛光的精密需求，目前又发展出了新的加工技术，如数控研磨和抛光技术、应力盘抛光技术、超光滑表面加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、震动抛光等，这些新技术，已完全适应光学领域迅猛发展的要求。光学镜片的抛光工艺—中国光学光电子行业网 COEMA
我国突破纳米抛光新工艺中国科学院
2007年1月19日 — 目前，纳米级光滑表面的抛光加工方法有很多，如传统的机械干式抛光和湿式抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、电场和磁场抛光、磁流变抛光(MRF)、湿式化学机械抛光、干式化学抛光、固着磨料抛光等。（ 2 ） 一种改进的评价CCOS抛光去除函数误差抑制能力的方法, 2019, 第 5 作者, 专利号: CNA （2） 弹性发射光学制造技术研究进展, Research progress of elastic emission machining in optical manufacturing, 中国光学, 2021, 张云中国科学院大学UCAS
化学机械抛光建模与应用综述,Nanotechnology Reviews XMOL
2020年3月12日 — 摘要 随着集成电路技术的发展，特别是进入亚微米工艺后，关键尺寸的减小和高密度器件的实现，集成电路材料层之间的平整度变得越来越关键。因为传统的机械抛光方法不可避免地会在金属甚至介电层中产生与器件相同大小的划痕，从而导致光刻中的景深和聚 2019年6月17日 — 技术，其中，弹性发射加工、磁流变抛光和化学机械 抛光等得到了良好的应用。这些抛光方法中弹性发 射加工[3]可以获得超光滑无损表面，但材料去除量 为原子级，效率极低；磁流变抛光[4]适用于各种复 杂曲面的抛光，但磁流变液价格昂贵，成本高内循环式非牛顿流体抛光单晶硅的仿真与试验研究
第7章 精密研磨与抛光百度文库
软质磨粒机械抛光（弹性发射加工） 最小切除可以达到原子级，直至切去一 层原子，而且被加工表面的晶格不致变形， 能够获得极小表面粗糙度和材质极纯的表面。 加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速 的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果。软质磨粒机械抛光（弹性发射 加工） 最小切除可以达到原子级，直至切去一层原子，而且被加工表面的晶格不致变形，能够获得极小表面粗糙度和材质极纯的表面。加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果 超精密研磨抛光的主要新技术百度文库
我国突破纳米抛光新工艺中国科学院
2007年1月19日 — 目前，纳米级光滑表面的抛光加工方法有很多，如传统的机械干式抛光和湿式抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、电场和磁场抛光、磁流变抛光(MRF)、湿式化学机械抛光、干式化学抛光、固着磨料抛光等。2014年8月13日 — 非接触抛光 非接触抛光是指在抛光过程中工具与工间完全分离,直接利用抛光介质如抛 光液 中的游离磨粒,离子,电子等来对工件表面材料产生作用,实现材料微量去除 如液 体喷射抛光、离子束抛光、弹性发射加工等,因为抛光过程中工具与工件是 分离的, 且材料 弹性发射加工中磨粒群运动特性的研究（可编辑） 豆丁网
中国光学（中英文）
本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的弹性发射抛光 工作原理 抛光轮与工件表面形成 小间隙，中间置抛光液， 靠抛光轮高速回转造成 微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进 行加工。 抛光轮： 由聚氨基甲酸（乙）酯 制 成 ， 磨 料 直 径 01 ～ 001μm 加压 抛光轮 悬浮液 小间隙 工件 图 弹性发射加工原理第7章超精密研磨与抛光百度文库
CMP抛光垫三大特性：颗粒度、硬度与弹性的综合解析
2023年8月23日 — 在化学机械抛光（CMP）的世界中，抛光垫的性能决定了处理质量与效率。其中，颗粒度、硬度和弹性是三个决定性的因素。这些特性如何共同作用，以及如何影响抛光过程呢？让我们一起深入探讨。C2022年10月31日 — 任务 32 基于弹性发射抛光技术的单晶硅超光滑表面抛光工艺控制 目标：在已有的流体动压弹性发射抛光装备上，配置专用的抛光液体系，揭示抛光间隙、转动速度、抛光液成分对单晶硅弹性发射抛光效率及表面质量的影响规律，初步获取单晶硅超光滑表面 新工科毕业设计项目指导教师及学生申报通知（原子及近原子
面向光学玻璃的精密加工技术研究
本论文的工作内容包括以下几个方面: (1)阐述了光学玻璃零件的抛光机理，根据水射流的理论基础，结合弹性发射加工技术和磨料水射流抛光技术的机理研究分析了弹性射流抛光的材料去除机理，分析了抛光过程中会对加工效果产生影响的几个主要工艺参数。2020年11月12日 — 磁流变弹性体（MRE）是智能材料的一种，其智能模量在磁场作用下会显着增加。这些弹性体是通过将磁性微米级颗粒分散到柔软的固体载体介质中制备的。这些弹性体的主要特征是它们在磁场的作用下迅速改变其弹性和阻尼性能。MRE的特性变化（也称为磁流变（MR）效应）取决于各种参数，例如基体 磁流变弹性体的最新进展：综述,Smart Materials and
超精密抛光技术上海脉诺金属表面处理技术有限公司
2023年3月27日 — 软质磨粒机械抛光 (弹性发射加工)。加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果。 6 化学机械抛光。化学机械抛光是一种利用研磨液的腐蚀作用和磨粒的机械作用双重作用的研磨方法。2021年12月30日 — 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光 弹性发射光学制造技术研究进展
一种弹性发射抛光装置 百度学术
2016年11月9日 — 主权项： 1一种弹性发射抛光装置，包括抛光柱自转单元和工件自转单元，所述抛光柱自转单元包括抛光柱、抛光柱自转驱动结构和抛光柱升降结构，所述抛光柱自转驱动结构包括自转轴、电机、同步轮、同步带、轴承、支撑臂，所述抛光柱升降结构包括横梁、导轨、导轨固定梁和气缸，所述工件 2021年7月24日 — 弹性发射加工－EEM （Elastic Emission Machining） 2021/7/24 21 552 界面化学抛光 化学机械抛光CMP (Chemical Mechanical Polishing or Chemical Mechanical Planarization) 微细磨粒＋软质抛光垫＋酸性（或碱性）液 利用磨粒的机械作用和加工液的腐蚀第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库
弹性发射光学制造技术研究进展 中国光学 中国光学期刊网
2021年11月16日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。 2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光弹性发射光学制造技术研究进展 旭为光电
纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术
借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]专利内容由知识产权出版社提供专利名称：一种弹性发射抛光装置 专源自文库类型：实用新型专利 发明人：毛卫平,张清明,杨明洋,刘秦江 申请号：CN 79 申请日： 公开号：CN20614 0239U 公开日一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]百度文库
弹性发射光学制造技术研究进展
2021年1月22日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的2015年7月8日 — Jeong[8]对弹性发射加工抛光区域的压力、速度进行分 析ꎬ并对磨粒运动进行模拟仿真以此来揭示材料的去 除机理ꎮKutbota等[9￣10]对弹性发射加工中磨粒的形 态对材料去除率的影响进行研究ꎬ结果表明磨粒相对超光滑表面加工技术研究进展
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2023年12月13日 — 基于光学镜片的研磨抛光的精密需求，目前又发展出了新的加工技术，如数控研磨和抛光技术、应力盘抛光技术、超光滑表面加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、震动抛光等等新技术，这些新的加工技术，需要边检测、边修正，不仅加工