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多晶硅石墨底座处理多晶硅石墨底座处理多晶硅石墨底座处理

具有镀层的石墨底座和电子级多晶硅生产系统 PatentGuru

2023年12月16日 — 本发明的石墨底座中在安装孔的内壁上设置镀层，避免了高温下石墨接触电子级多晶硅，解决了因石墨而造成的电子级多晶硅产品品质下降问题。2020年6月3日 — 本实用新型公开了一体式石墨底座和一种电子级多晶硅生产系统。其中，一体式石墨底座包括：本体、卡瓣结构、间隙和电极配置孔。卡瓣结构设在本体上部，与一体式石墨底座和电子级多晶硅生产系统

一体式石墨底座和电子级多晶硅生产系统的制作方法 X技术网

2020年9月11日 — 发明人在对生产电子级多晶硅用石墨底座的研究中发现，目前的石墨底座主要由3个配件组合而成：石墨卡瓣、石墨帽、石墨底座，使用时，将石墨卡瓣装入石墨 2024年5月23日 — 本发明公开了多晶硅石墨底座自动切削系统，涉及材料切割技术领域，包括控制中心，所述控制中心包括数据采集模块、数据处理模块、数据分析模块以及切削执多晶硅石墨底座自动切削系统

一体式石墨底座和电子级多晶硅生产系统龙图腾网

2020年6月3日 — 同时，由于电子级多晶硅对纯度要求极高，因此分体式的石墨结构回收利用效率要求少于两炉次，且分体石墨基底加工工序繁多，综合分析，该一体式石墨底座具 2024年8月22日 — 5、根据本实用新型实施例的具有镀层的石墨底座，在电子级多晶硅生产过程中硅芯可放置在安装孔内，通过在安装孔的内壁上设置镀层，能够有效地避免了硅芯具有镀层的石墨底座和电子级多晶硅生产系统的制作方法

具有镀层的石墨底座和电子级多晶硅生产系统龙图腾专利

2023年12月16日 — 摘要：本发明公开了一种具有镀层的石墨底座和电子级多晶硅生产系统，包括底座和设置在底座上的石墨卡瓣，所述石墨卡瓣包括围绕石墨卡瓣中心分布的若根据各项意见修改了《多晶硅生产用石墨制品》初稿后，于2018年4月24日，由全国半导体材料标准化分技术委员会组织，在北京市召开《多晶硅生产用石墨制品》标准第二次讨论协会标准多晶硅生产用石墨制品送审稿百度文库

一种多晶硅还原炉石墨卡瓣加工底座百度学术

一种多晶硅还原炉石墨卡瓣加工底座本实用新型公开了种多晶硅还原炉石墨卡瓣加工底座,包括基座,所述基座的内部预留有放置槽,且放置槽的内部设置有石墨本体,所述基座的边侧开多晶硅产能扩张的今天,提升多晶硅产品质量是提高市场竞争能力的重要途径本文主要针对多晶硅生产中使用的石墨件可能给多晶硅带来的碳污染进行了阐述石墨件在高温下能够与石墨材料在多晶硅生产中的应用——降低碳含量,提高多晶硅品质

多晶硅石墨底座处理采石场设备网

2005年12月29日 — 石墨硅生产工艺配方技术多晶硅,碳化硅,石墨 40bg64854 一种多晶硅氢化炉用石墨底座 41 47bg64854 多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法 48bg64854 还原炉石墨电极查询下载中国应用技术网本实用新型涉及一种还原炉石墨电极，它属于多晶硅生产2009年7月22日 — 本发明涉及多晶硅还原炉石墨电极的领域，特别是多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法。背景技术在多晶硅生产中，硅芯棒由石墨电极与还原炉铜电极相连在iioo'c沉积多晶硅。石墨电极材质的纯度将影响多晶硅的质量。为了减少石墨电极中的杂质对多晶硅质量的影响，一般采取高温(110(TC)煅烧抽多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法的制作方法 X技术网

多晶硅石墨底座处理采石场设备网

2005年12月29日 — 石墨硅生产工艺配方技术多晶硅,碳化硅,石墨 40bg64854 一种多晶硅氢化炉用石墨底座 41 47bg64854 多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法 48bg64854 还原炉石墨电极查询下载中国应用技术网本实用新型涉及一种还原炉石墨电极，它属于多晶硅生产2023年10月20日 — 石墨是碳的一种同素异形体，为灰黑色、不透明固体，化学性质稳定，耐腐蚀，同酸、碱等药剂不易发生反应。天然石墨来自石墨矿藏，也可以以石油焦、沥青焦等为原料，经过一系列工序处理而制成人造石墨。石墨在氧气中燃烧生成二氧化碳，可被强氧化剂如浓硝酸、高锰酸钾等氧化。石墨（元素碳的一种同素异形体）百度百科

多晶硅石墨底座处理

多晶硅石墨底座处理 T01:07:08+00:00 多晶硅石墨底座处理多晶硅石墨底座处理，石墨烯后起之秀（天富热电）新材料加热该法是通过加热单晶6面上分解出石墨烯片层。具体过程是：将经氧气或氢气刻蚀处理得到的样品在高真空下通过多晶硅的 2018年7月13日 — 多晶硅石墨底座处理与叶轮的轴向和径向间隙均为毫米。 The requirement that the grain with what put forward from angle of degree of cement to hydrate does not exceed is compared, grain slants much 多晶硅石墨底座处理

多晶硅石墨底座处理

多晶硅石墨底座处理 T13:01:11+00:00 多晶硅石墨底座处理多晶硅石墨底座处理 2018年3月23日太阳能电池组件一般选用单晶硅或者多晶硅太阳能电池组件；led灯头工作,不需要挖沟布线,但灯杆需要装置在预埋件（混凝土底传统的多晶硅还原炉 2019年12月10日 — 多晶硅碳头料处理装置（19）中华人民共和国国家知识产权局（12）实用新型专利（10）申请公布号 CNU（43）申请公布日本实用新型的主要技术方案为：一种多晶硅碳头料处理装置，包括：底座，底座上具有凹槽，用于固定石墨多晶硅碳头料处理装置百度文库

一体式石墨底座和电子级多晶硅生产系统龙图腾网

2020年6月3日 — 本发明公开了一体式石墨底座和一种电子级多晶硅生产系统。其中，一体式石墨底座包括：本体、卡瓣结构、间隙和电极配置孔。卡瓣结构设在本体上部，与本体为一体式结构；卡瓣结构包括多个子卡瓣，多个子卡瓣之间形成有间隙；电极配置孔设在本体下部。卡瓣结构与石墨底座本体为一体式结构定制加工耐高温石墨底座石墨卡瓣青岛三合石墨制品。石墨卡瓣多晶硅用石墨卡瓣高纯高品质低价促销石墨。慧聪网(H供应商浙江协力机械工具石墨、多晶硅、碳素专用锯床。本企业石墨、多晶硅、碳素专用锯床质量保证欢迎咨询洽谈。表面处理(22)单晶硅多晶硅石墨底座处理

多晶硅石墨底座处理

定制加工耐高温石墨底座石墨卡瓣青岛三合石墨制品。石墨卡瓣多晶硅用石墨卡瓣高纯高品质低价促销石墨。慧聪网(H供应商浙江协力机械工具石墨、多晶硅、碳素专用锯床。本企业石墨、多晶硅、碳素专用锯床质量保证欢迎咨询洽谈。表面处理(22)单晶硅2023年5月6日 — 六工石墨卡瓣摘要：石墨卡瓣装置，由加工槽、加工槽支板、加工底座六工专业生产多晶硅、单晶硅用石墨卡瓣, 采用三高石墨材料生产。碳量：9999%，抗压强度：65Mpa，抗折强度：35Mpa，比电阻：10μΩm，灰分：001% 纯石墨卡瓣,高纯度,多晶硅用石墨卡瓣怎么选？加工质量底座

一种多晶硅还原炉石墨卡瓣加工底座百度学术

摘要：本实用新型公开了种多晶硅还原炉石墨卡瓣加工底座,包括基座,所述基座的内部预留有放置槽,且放置槽的内部设置有石墨本体,所述基座的边侧开设有滑槽,且滑槽的内部安装有铁丝网的底部,所述铁丝网的顶部安装有水管,且水管位于石墨本体的上方,所述铁丝网的内壁上安装有支撑杆,且铁丝网 2018年3月30日 — 美尔森石墨加工碳解决方案块杆板坯料 MERSEN 美尔森是等静压石墨领军生产商之一。 Ellor®：美尔森为您的EDM电极提供高密度等向性石墨块及坯料产品明细热玻璃处理硬件和耗材纯石墨：多晶硅制造海通证券周报海通证券中小市值研究新三板数据多晶硅石墨底座处理

3种多晶硅废气处理工艺流程（附流程图）格林斯达环保

2023年7月12日 — 多晶硅废气主要为酸碱废气和有机废气两种，因其废气成分不同，它的处理工艺流程也有所不同，本文为您介绍的是3种多晶硅废气处理工艺流程。多晶硅废气处理工艺流程一多晶硅废气处理工艺流程一般包括以下步骤：废气收集：将多晶硅生产过程中产生的 2020年2月1日 — 更多相关文档 TCNIA 十六碳双酯星级： 8 页 TCNIA 高铅渣星级： 16 页 TCNIA 镓锗富集物星级： 16 页 TCNIA 粗亚碲酸钠星级： 16 页 TCNIA 锗镓富集物星级： 12 页 TCNIA 电子级工业用硫酸TCNIA 多晶硅生产用石墨制品道客巴巴

等静压石墨和模压石墨的区别百度知道

2024年8月4日 — 1直拉单晶硅热场和多晶硅铸锭炉用加热器：在直拉单晶硅热场中，等静压石墨部件有坩埚、加热器、电极、隔热遮蔽板、籽晶夹持器、旋转坩埚用的底座、各种圆板、热反射板等约30种。其中，80%的等静压石墨用于制造坩埚和加热器等。在太阳 2020年7月25日 — 等静压石墨的主要用途： 1直拉单晶硅热场和多晶硅铸锭炉用加热器在直拉单晶硅热场中，等静压石墨部件有坩埚、加热器、电极、隔热遮蔽板、籽晶夹持器、旋转坩埚用的底座、各种圆板、热反射板等约30种。什么是等静压石墨？国内有哪些厂家生产？价格贵吗？知乎

多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法百度学术

摘要：本发明公开了多晶硅还原炉石墨电极的洁净处理水淬法,其特征在于:对石墨电极分别进行三次水淬,即先对石墨电极进行三次加热然后分别进行三次水浸冷却,水浸冷却时通过纯水进入被加热的石墨电极内部,石墨电极将纯水汽化为蒸汽,蒸汽将石墨中的杂质夹带出去;本发明洁净处理还原炉石墨 2019年8月9日 — 等静压石墨的主要用途直拉单晶硅热场和多晶硅铸锭炉用加热器直拉单晶硅热场中，等静压石墨部件有坩埚、加热器、电极、隔热遮蔽板、籽晶夹持器、旋转坩埚用的底座、各种圆板、热反射板等约 30 种。其中，80%的等静压石墨用于制造坩埚和加热器等。等静压石墨的特性和应用 – 信瑞达石墨

多晶硅的真空感应熔炼及定向凝固研究

2007年1月25日 — 摘要以工业硅为原料进行了多晶硅的真空感应熔炼及定向凝固研究，用自行设计的真空定向凝固设备制备了多晶硅铸锭。金相显微镜观察显示铸锭的显微组织为粗大的柱状晶，经电感耦合等离子体发射光谱仪分析，其纯度由99．50％提石墨由于其特殊结构，具有良好的耐高温性、抗热震性、导电性、润滑性、化学稳定性以及可加工性等众多特性。【应用领域】：广泛应用于光伏多晶硅、化工、半导体、电气、冶金、机械等领域。主要产品有多晶硅还原炉石墨卡瓣、卡帽、卡座。【规格参数】：石墨件制品石墨三件套新特能源股份有限公司 Xinte Energy

美尔森西门子工艺硅 STC TCS 等静压石墨套

硅生产过程中使用的高纯度石墨多晶硅行业必须满足新的要求并降低成本。美尔森的一系列产品旨在实现这些目标：保证高纯度多晶硅9N作为基准，并在不久的将来达到10N纯度，通过使用可持续设备降低维护成本，降低过程能源成本。摘要：多晶硅产能扩张的今天,提升多晶硅产品质量是提高市场竞争能力的重要途径本文主要针对多晶硅生产中使用的石墨件可能给多晶硅带来的碳污染进行了阐述石墨件在高温下能够与氢气反应形成甲烷等烃类物质,甲烷遇红热硅棒即重新分解成碳和氢,碳与硅一起沉积,造成多晶硅碳含量增加,影响石墨材料在多晶硅生产中的应用——降低碳含量,提高多晶硅品质

多晶硅行业中氯硅烷残液处理利用的研究进展

2021年4月26日 — 生产多晶硅的过程中会产生大量的氯硅烷残液，如果处理不好，会造成很大程度的环境污染和资源浪费。因此，对于氯硅烷残液的处理与利用是多晶硅行业必须面对的一个难题。今对改良西门子法生产多晶硅时氯硅烷残液的来源进行介绍，综述关于氯硅烷残液和氯硅烷高沸物组成的相关研究。目前在多晶硅生产领域中，大多是采用改良西门子法生产多晶硅，在进行多晶硅还原反应之前，将娃芯插在石墨件上，石墨件套在铜电极上，娃芯按照一定的电极连接方式进行安装，安装完成后，按照工艺程序进行置换、击穿、进料并进而发生气相沉积反应，反应产生的晶粒沉积在硅芯上，经过规定一种多晶硅还原炉石墨件的制作方法 X技术网

等静压石墨的主要应用领域和市场前景分析核能工业山东

2018年11月19日 — 等静压石墨是新型石墨材料，是石墨材料中的精品，由于具有一系列优良特性，它必然会与高新技术、国防尖端技术紧密相联，成为21世纪最有价值的新材料之一。随着经济发展，静压石墨的国内国际市场容量与日俱增，发展潜力巨大。正因如此，目前国内正兴起一股等静压石墨生产热，一些以生产 2023年11月13日 — 太阳能光伏热场中，石墨卡瓣是多晶炉中重要的零部件之一，石墨卡瓣在不同的用途下制作形状有稍微的差异。石墨卡瓣的质量直接抉择了晶硅的质量，在石墨卡瓣制作要严厉选材和精细加工制作。石墨卡瓣布景技术：现有技术的高纯石墨卡瓣的加工，一般由技术人工使用机械车床直接加工，由多晶硅用石墨卡瓣是什么？

多晶硅还原炉用石墨组件及其使用方法与流程 X技

2022年10月12日 — 1本发明涉及石墨组件结构技术领域，更为具体地，涉及一种多晶硅还原炉用石墨组件和多晶硅还原炉用石墨组件的使用方法。背景技术： 2多晶硅是用于生产半导体和太阳能光伏产品的主要原料，目前多晶硅铸锭炉操作与生产流程 (共30张PPT)量报警等。，可以查看功率、3个热电偶的温度、炉腔压力、隔热笼位置、高温计和报警。冷却：五个步骤（1012小时） 4 坩埚盒与交换台四周距监控窗口在监控窗口中可以看到系统运行时的状态，包括当前的模式多晶硅铸锭炉操作与生产流程(共30张PPT) 百度文库

多晶炉热场 – 信瑞达石墨

多晶炉热场又称多晶硅铸锭炉，合理的热场结构以及的石墨热场零部件出炉的晶体满足客户的需求，多晶炉热场石墨件的选择也是值得斟酌。多晶硅铸锭炉是一种硅重熔设备，用于生产大量合格的太阳能级多晶硅铸锭。2021年11月15日 — 影响石墨化的主要因素是原料、温度、时间、压力和催化剂等。1）原料：在高温下容易转化成石墨的无定形碳称为易石墨化炭（或称为可石墨化炭）。石油焦、针状焦等属于易石墨化炭。易石墨化炭在炭化制备过程中一般经历了溶融状态，其结构中碳分子簇团接近相互平行排列。新材料行业：石墨化深度解析知乎

公司简介佛山市南海区钜盛石墨制品有限公司

佛山市南海区钜盛石墨制品有限公司 Foshan Nanhai Jusheng Graphite Products Co, Ltd 佛山市南海区钜盛石墨制品有限公司，位于佛山市郊区广佛高速谢边出口 325 国道边曹边第三工业区，交通便利，占地面积 10500平方米，拥有先进的机械设备与优良的技术人员队伍，是佛山地区一家大型石墨加工企业，公司 2011年9月22日 — 多晶硅生产企业废水处理工程设计与应用姜静 (陕西天宏硅材料有限责任公司西安) 摘要针对多晶硅生产企业面临的污水处理问题，探讨了多晶硅生产企业废水处理的工程设计原则、方法及应用需求．通过分析多晶硅生产企业污水水质的特性。多晶硅生产企业废水处理工程设计与应用 Dowater

多晶硅加工废水处理知乎

2023年8月17日 — 多晶硅以单质硅的形态存在，在过冷条件下凝固时以金刚石晶格形态排列成许多晶核，众所周知多晶硅是太阳能电池的重要原料，而随着新能源的发展越来越迅速，晶硅加工企业也在迅速的发展起来，在多晶硅半导体工业发展的同时也带来了工业废水的问题。2015年11月24日 — 2 高纯石墨的生产方法天然石墨因为其粉体形态使其应用受到限制, 因此对天然石墨进行深加工处理后的高纯石墨发展显得尤为重要, 目前高纯石墨的生产工艺主要有以下几种。 21 酸碱法酸碱法又称碱酸法, 也称为熔碱法或氢氧化钠法。高纯石墨材料的生产及在光伏行业中的应用技术进展中国

多晶硅石墨底座自动切削系统

2024年5月23日 — 本发明公开了多晶硅石墨底座自动切削系统，涉及材料切割技术领域，包括控制中心，所述控制中心包括数据采集模块、数据处理模块、数据分析模块以及切削执行模块；通过对石墨底座表面的硅结晶情况进行识别，并获取石墨底座表面硅结晶的分布情况，对切削端的切削频率以及移动速度进行自动 2024年5月23日 — 本发明公开了多晶硅石墨底座自动切削系统，涉及材料切割技术领域，包括控制中心，所述控制中心包括数据采集模块、数据处理模块、数据分析模块以及切削执行模块；通过对石墨底座表面的硅结晶情况进行识别，并获取石墨底座表面硅结晶的分布情况，对切削端的切削频率以及移动速度进行自动多晶硅石墨底座自动切削系统龙图腾网